我國專利檢索系統於7月1日 起新增「參考文獻」、「被參考文獻」檢索及「被參考次數顯示」功能，藉由檢索結果被參考欄位中顯示該專利被參考次數之多寡，可提供使用者評估其專利的重要 性，迅速篩選重要專利；另再搭配參考及被參考文獻查詢功能，則可提供使用者瞭解相關專利之關聯性及技術脈絡。
使用時，於檢索畫面輸入檢索條件，並於條列式簡目欄位勾選 「被參考次數」進行檢索後，檢索結果簡目將顯示各篇專利的被參考次數，藉由次數的多寡可得知該專利的重要性，系統也提供3,000筆專利以內的排序功能，可將重要性專利排於前端，方便使用者 快速集中閱覽重要專利，如使用者須進一步查看被哪些專利參考，只要點擊「被參考次數(例 如數字5)」， 即可顯示該5筆 專利的簡單資料，及可再深入檢視詳細資料，可讓使用者快速知道各專利間的前後關聯。
詠晟註：「參考文獻」指該專利在審查過程中檢索到的相關前案、「被參考文獻」指其他專利在審查過程中曾引用該篇專利。
資料來源：TIPO, 2014.07.02
